光刻胶 - 生命之风的低语

光刻胶的价格因品牌、用途、规格和技术参数等因素而异。以下是一些影响光刻胶价格的主要因素及其大致范围：影响光刻胶价格的因素类型：正性光刻胶（Positive Photoresist）：一般价格较负性光刻胶略高。负性光刻胶（Negative Photoresist）：价格相对较低，但具体情况依赖于应用和规格。应用领域：半导体制造：用于高精度工艺的光刻胶价格较高。 PCB制造：用于印刷电路板的光刻胶价格相对较低。 MEMS和光学元件：价格视具体需求和技术要求而定。技术参数：分辨率和厚度：高分辨率和特定厚度的光刻胶通常价格较高。感光波长：DUV和EUV光刻胶价格...

秀秀发布于2024-06-04 13:46 95次阅读

光刻胶是什么

工业制造

光刻胶（Photoresist）是一种感光材料，广泛应用于微电子、半导体制造和微机电系统（MEMS）等领域。它的主要功能是通过光化学反应在基板上形成所需的图案，从而为后续的刻蚀或离子注入等工艺提供掩模。光刻胶的分类光刻胶可以根据其感光波长和化学性质进行分类：按感光波长分类：紫外光（UV）光刻胶：敏感波长通常在200-400 nm范围内，广泛用于传统的光刻工艺。深紫外光（DUV）光刻胶：敏感波长通常在248 nm或193 nm，用于更高分辨率的光刻工艺。极紫外光（EUV）光刻胶：敏感波长为13.5 nm，用于最新的高精度半导体制造。按化学性质分类：正性光刻胶：曝光后...

秀秀发布于2024-06-04 13:31 101次阅读

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一般光刻胶的价格是什么样的

光刻胶是什么